Thông tin luận án tiến sĩ của nghiên cứu sinh Bùi Văn Khoản (bản chỉnh sửa sau khi Hội đồng cấp Viện):

Họ tên nghiên cứu sinh: Bùi Văn Khoản

Đơn vị công tác: Trường Đại học Sư phạm Kỹ thuật Hưng Yên 

Tập thể Người hướng dẫn khoa học: PGS.TS Lê Thu Quý, TS Phan Thạch Hổ

Ngành Kỹ thuật Cơ khí – Mã số: 9520103

Cơ sở đào tạo: Viện Nghiên cứu Cơ khí – Bộ Công Thương

Tên đề tài luận án: “Nghiên cứu ảnh hưởng của chế độ công nghệ phun phủ plasma đến tính chất của lớp phủ gốm hệ Al2O3-TiO2 trên nền thép”

Tóm tắt kết luận mới của luận án

1. Dựa trên điều kiện thí nghiệm tại cơ sở đào tạo, đã lựa chọn và nghiên cứu sâu về ảnh hưởng của bộ 3 thông số phun phủ plasma đến chất lượng lớp phủ bao gồm cường độ dòng điện phun (I), khoảng cách phun (L) và lưu lượng cấp bột phun (M). Độ cứng tế vi, độ bền bám dính, độ xốp và hệ số ma sát là những chỉ tiêu tính chất quan trọng của lớp phủ đã được đánh giá và phân tích.

2. Sử dụng phương pháp Taguchi kết hợp với phân tích phương sai ANOVA đã xác định được phần trăm ảnh hưởng của 3 thông số công nghệ phun đến các chỉ tiêu chất lượng đầu ra. Luận án đã xây dựng được các bộ thông số phun tối ưu đơn mục tiêu nhằm đạt được các chỉ tiêu độ cứng cao nhất (619,54 HV); hệ số ma sát thấp nhất (0,49); độ bền bám dính trượt cao nhất (60,52 MPa); độ xốp thấp nhất (3,92%).

3. Sử dụng phương pháp bình phương tối thiểu, đã xây dựng được các phương trình hàm hồi quy thực nghiệm bậc 2 thể hiện mối quan hệ giữa độ cứng, độ bền bám dính, độ xốp và hệ số ma sát của lớp phủ với bộ 3 thông số công nghệ phun I-L-M để dự đoán chất lượng lớp phủ.

4. Thông qua chỉ tiêu đánh giá tổng thể OEC, đã phân tích xác định được bộ thông số phun tối ưu (I = 600 A; L = 110 mm; M = 1,9 kg/h) đảm bảo đồng thời 3 chỉ tiêu cơ tính đầu ra của lớp phủ (độ cứng 585,6 HV; độ bám dính trượt 56,4 MPa; độ xốp 4,24%), sai lệch so với kết quả tối ưu đơn mục tiêu ở mức thấp (< 10%).

5. Các kết quả nghiên cứu tối ưu đơn mục tiêu và đa mục tiêu đều cho thấy trong số 3 thông số công nghệ phun I-L-M thì cường độ dòng điện phun luôn có ảnh hưởng lớn nhất tới các chỉ tiêu chất lượng lớp phủ, lớn hơn nhiều so với 2 thông số kia. Kết quả phân tích XRD xác định thành phần pha của các mẫu lớp phủ so với thành phần pha của bột phun ban đầu cho thấy, tùy thuộc chế độ phun, dưới tác dụng của năng lượng plasma, đã có sự chuyển biến pha với sự hình thành một số pha mới khi cường độ dòng điện phun tăng, như γ-Al2O3 (chuyển biến từ α-Al2O3), rutile-TiO2 (chuyển biến từ anatas-TiO2), Al2TiO5 (kết hợp của Al2O3 và TiO2).

Thông tin nội dung chi tiết LATS của NCS Bùi Văn Khoản:
->Thông tin toàn văn luận án xin click vào đây
->Trích yếu luận án tiến sĩ tiếng Việt click vào đây
->Tóm tắt luận án tiến sĩ tiếng Việt click vào đây
->Tóm tắt luận án tiến sĩ bằng tiếng Anh click vào đây
->Thông tin luận án tiến sĩ file tiếng Việt click vào đây
->Thông tin luận án tiến sĩ file tiếng Anh click vào đây